中国上市公司网讯 7月12日，上交所官网披露了拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆科技”或公司)首次公开发行股票招股说明书(申报稿)，公司IPO材料被正式受理。

　　据悉，拓荆科技本次拟公开发行股票数量为不超过3,161.9800万股，且不低于发行后总股本的25%。拟于上交所科创板上市，保荐机构为招商证券。

　　公开资料显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试。