中国上市公司网讯 3月29日，拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆科技”或公司)披露招股意向书，公司启动发行，将于4月8日申购，证券简称：拓荆科技，证券代码：688072。拓荆科技拟在上交所科创板上市。

　　据悉，拓荆科技本次公开发行股份不超过31,619,800万股，全部为公开发行新股，发行后总股本为126,478,797万股。本次发行采用战略配售、网下发行和网上发行相结合的方式进行。本次发行初始战略配售发行数量为4,742,970股，回拨机制启动前网下初始发行数量为21,501,830股，占扣除初始战略配售数量后发行数量的80.00%，网上初始发行数量为5,375,000股，占扣除初始战略配售数量后发行数量的20.00%。公司本次发行初步询价时间为4月1日9:30-15:00，4月7日为公司本次网上路演时间。

　　公开资料显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。