沈阳芯源微电子设备股份有限公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机)，产品可用于 6 英寸及以下单晶圆处理(如 LED 芯片制造环节)及 8/12 英寸单晶圆处理(如集成电路制造前道晶圆加工及后道先进封装环节)。
| 股票代码 | 688037 |
| 股票简称 | 芯源微 |
| 上市板块 | 上交所科创板 |
| 发行价格(元/股) | 26.97 |
| 发行市盈率 | 112.70 |
| 网上发行股数(股) | 7,202,500 |
| 网下配售数量(股) | 11,271,750 |
| 总发行数量(股) | 21,000,000 |
| 网上发行中签率(%) | 0.04595643 |
| 募集资金总额(亿元) | 5.66 |
| 保荐人(主承销商) | 国信证券 |
| 预先披露日期 | 2019-07-12 |
| 上市委会议通过日期 | 2019-10-21 |
| 提交注册日期 | 2019-10-28 |
| 同意注册日期 | 2019-11-18 |
| 刊登发行公告日期 | 2019-11-26 |
| 网上路演日期 | 2019-12-03 |
| 网上发行日期 | 2019-12-04 |
| 中签号公布日期 | 2019-12-06 |
| 上市日期 | 2019-12-16 |
| 公司名称 | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 | 英文名称 | KINGSEMI Co., Ltd. |
| 成立日期 | 2002年12月17日（股份公司设立日期：2019年3月29日） | 注册资本(人民币万元) | 6,300 |
| 法人代表 | 宗润福 | 证监会行业分类 | 专用设备制造业（C35） |
| 雇员总数(人) | 253（截至2019年6月30日） | 总经理 | 宗润福 |
| 董事会秘书 | 李风莉 | 证券事务代表 | |
| 注册地址 | 辽宁省沈阳市浑南区飞云路 16 号 | 办公地址 | 辽宁省沈阳市浑南区飞云路 16 号 |
| 邮编 | 110168 | 电话 | 024-23826299 |
| 传真 | 024-23826200 | 公司网址 | http://www.kingsemi.com |
| 电子邮件 | lifl@kingsemi.com | 保荐代表人 | 敖振力、张程程 |
| 会计师事务所 | 容诚会计师事务所（特殊普通合伙） | 经办会计师 | 吴宇、冯颖、董博佳 |
| 律师事务所 | 北京市中伦律师事务所 | 经办律师 | 贾琛、魏海涛、赵海洋 |
| 资产评估机构 | 同致信德（北京）资产评估有限公司 | 经办评估人员 | 宋皖阳、韩旭 |
| 发行费用概算(万元) | 其中信息披露费用(万元) |
| 公司简介 | 公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机），产品可用于 6 英寸及以下单晶圆处理（如 LED 芯片制造环节）及 8/12 英寸单晶圆处理（如集成电路制造前道晶圆加工及后道先进封装环节）。 | ||
| 主营业务 | 主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售。 | ||
| 筹集资金将用于的项目 | 序号 | 项目 | 投资金额(万元) |
| 1 | 高端晶圆处理设备产业化项目 | 23,860.73 | |
| 2 | 高端晶圆处理设备研发中心项目 | 13,918.24 | |
| 投资金额总计 | 37,778.97 | ||
| 序号 | 股东名称 | 持股数量(万股) | 占总股本比例(%) |
| 1 | 先进制造 | 1,433.24 | 22.75 |
| 2 | 中科院沈自所 | 1,050.00 | 16.67 |
| 3 | 科发实业 | 993.28 | 15.77 |
| 4 | 国科投资 | 682.00 | 10.83 |
| 5 | 国科瑞祺 | 450.00 | 7.14 |
| 6 | 周冰冰 | 419.48 | 6.66 |
| 7 | 宗润福 | 265.00 | 4.21 |
| 8 | 沈阳科投 | 150.00 | 2.38 |
| 9 | 李风莉 | 140.00 | 2.22 |
| 10 | 王绍勇 | 90.00 | 1.43 |
| 合计 | 5,673.00 | 90.06 | |
|---|---|---|---|
| 序号 | 公司名称 | 简要介绍 |
| 1 | 日本东京电子（TEL） | 该公司成立于 1963 年，系东京证券交易所上市公司（股票代码：8035），主要从事半导体设备的研发、生产和销售，其主要产品包括涂布/显像设备、热处理成膜设备、干法刻蚀设备、CVD、湿法清洗设备及测试设备等。 |
| 2 | 日本迪恩士（DNS） | 该公司成立于 1868 年，系东京证券交易所上市公司（股票代码：7735），主要从事半导体制造设备、图像情报处理机器、液晶制造设备及印刷电路板设备的研发、生产和销售业务，其半导体制造设备主要包括清洗设备、涂布/显影设备、退火设备等。 |
| 3 | 德国苏斯微（SUSS） | 该公司成立于 1949 年，系德国证券交易所上市公司（股票代码：SMH），核心业务是光刻解决方案及晶圆片键合，主要产品包括高精度光刻设备（如光刻机、旋涂机、喷胶机等）及大规模封装市场用键合机等。 |
| 4 | 台湾亿力鑫 ELS | 该公司成立于 2005 年，专注于制造小尺寸全自动黄光制程量产设备，主要产品包括光阻涂布设备、曝光设备、光罩清洗设备、显影设备、金属/光阻剥离设备等。 |
| 5 | 韩国 CND | 该公司成立于 2005 年，专注于设计制造全自动黄光设备，主要产品包括涂胶/显影设备、喷胶设备等。 |
| 6 | 美国固态半导体（SSEC） | 主要为先进封装、MEMS 及化合物半导体等领域提供单晶圆湿法处理设备，2014 年被美国纳斯达克上市公司美国维易科（Veeco）收购，美国维易科（Veeco）主要从事薄膜加工设备的设计、制造和销售，其主要产品包括 MOCVD、先进封装领域光刻设备、晶圆检测系统等。 |
| 7 | 盛美半导体（ACM Research） | 该公司成立于 2005 年，位于上海，系美国纳斯达克股票交易所上市公司（股票代码：ACMR），主要从事单晶片湿式清洗设备的研发、生产和销售业务。 |
| 8 | 北方华创（NAURA） | 该公司是由七星电子和北京北方微战略重组而来，位于北京，系深圳证券交易所上市公司（股票代码：002371.SZ），主要从事电子工艺装备（包括半导体装备、真空装备、锂电装备）和电子元器件（如电阻、电容、晶体器件等）的研发、生产和销售，其生产的半导体装备主要包括干法等离子体刻蚀机、PVD、CVD、氧化/扩散炉、清洗机及气体质量流量控制器等产品。 |
| 序号 | 客户名称 |
| 1 | 江苏壹度科技股份有限公司 |
| 2 | 昆明京东方显示技术有限公司 |
| 3 | 江阴长电先进封装有限公司 |
| 4 | 中芯国际集成电路制造有限公司及其下属企业 |
| 5 | 苏州能讯高能半导体有限公司 |
| 序号 | 供应商名称 |
| 1 | NIDEC SANKYO CORPORATION |
| 2 | 沈阳市于洪区华业金属装饰制品厂 |
| 3 | SMC(中国)有限公司 |
| 4 | 苏州市兆恒众力精密机械有限公司 |
| 5 | 昆山科迪特精密工业有限公司 |
| 财务指标/时间 | 2019年6月 | 2018年12月 | 2017年12月 | 2016年12月 |
| 总资产(元) | 353,705,783.93 | 379,702,816.67 | 335,138,488.89 | 297,327,096.44 |
| 净资产(元) | 222,681,914.27 | 219,876,928.23 | 193,179,015.14 | 146,352,464.01 |
| 少数股东权益(元) | - | - | - | - |
| 营业收入(元) | 67,017,720.68 | 209,990,524.25 | 189,885,024.08 | 147,603,129.93 |
| 净利润(元) | 2,804,986.04 | 30,477,913.09 | 26,268,063.63 | 4,928,457.22 |
| 资本公积(元) | 156,876,928.23 | 66,376,171.58 | 66,376,171.58 | 47,597,171.58 |
| 未分配利润(元) | 2,804,986.04 | 80,781,154.74 | 57,131,032.96 | 36,405,038.19 |
| 基本每股收益(元) | 0.04 | 0.48 | 0.44 | 0.08 |
| 稀释每股收益(元) | 0.04 | 0.48 | 0.44 | 0.08 |
| 每股现金流(元) | -0.21 | -0.45 | 0.67 | 1.15 |
| 净资产收益率(%) | 1.27 | 14.80 | 15.91 | 3.43 |
